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加热台主要用于VTC-600-2HD双靶、VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪及GSL-1800X-ZF4挥发镀膜仪的样品台的加热。

密封装置主要用于在空腔室上垂直安装圆柱型元器件，安装孔径为19.2mm。

不锈钢弯头二个接口，两接口为90°垂直且共面散布，主要用于邻接真空腔室与关连配件。

四通阀包括三个接口、1个阀门，呈垂直且共面漫衍，个中2个KF40接口、1个KF25接口，主要用于邻接真空腔室与分子泵及真空规管，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪的高真空腔室。

VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪，控制面板采用触摸屏模式，基片极限尺寸为2″，放置样品的直径为Ø50mm，加热温度达500℃。可溅射金、银、铜三种靶材，不可能溅射轻金属和碳。本机采用旋转式样品台，不妨在同一样品上涂覆三层薄膜，合用于实验室制备复膜的样品。采用PLC控制面

GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪专门为在基底上镀金属膜而设计，Z大部署样品尺寸直径为40mm，膜厚可达300Å，合用于为SEM样品镀金而算作导电。