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1200℃七温区独立控制管式炉OTF-1200X-VII选拔独立的温控装置，可解脱炉体进行温控操作，通过调节各个温区的温度，可能在加热区内酿成四段温度梯度，或酿成长的恒温地域。本机具有控温精度高，保温成效好，温度界线大，温度平均性高，温区多，可通氛围抽真空及平安信得过、操作单一等特点。

1200℃五温区独立控制管式炉OTF-1200X-V拔取独立的温控装置，可离开炉体进行温控操作，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内造成四段温度梯度，或造成较长的恒温地区。本机具有控温精度高，保温成就好，温度界线大，温度均匀性高，温区多，可通空气抽真空及安好信得过真实、操作单一等特性。

1200℃五温区开启式管式炉OTF-1200X-V每个温区由独立的温控体例控制，通过调节各个温区的温度，能够在加热区内造成四段温度梯度，或造成长的恒温地区。本机用于高等院校、科研院所、工矿企业等尝试或少数量出产，主要对电子陶瓷的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积等工艺。具有控温精度高，保温效果好，温度鸿沟大，温度均匀性高，温区多，可通气氛抽真空及安详可靠、操作简单等特性。

1200℃三温区开启式管式炉OTF-1200X-Ⅲ-S每个温区由独立的温控编制控制，具有控温精度高，保温成果好，温度畛域大，温度均匀性高，温区多等特征。本机可通氛围抽真空，操作简单，安详靠得住。

1200℃开启式双温区管式炉OTF-1200X-IIZ高温度可达到1200℃，并可通过调节两个独立的控温措施，使炉管内温度场变成一梯度。本机可用CVD办法来成长纳米原料和制作百般薄膜。

1200℃开启式管式炉OTF-1200X-5L是一款单温区管式炉，炉管直径Φ 5″，长1400mm ，Z高温度可达到1200℃。本机可在各种空气保护下对样品进行热料理、沉积、烧结，是一款的实验设备。