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1600℃真空高温管式炉GSL-1600X加热元件选择1700℃级硅钼棒，广泛用于真空或惰性气体保障状态下，新质料样品的烧结或退火。

1600℃真空高温管式炉GSL-1600X-S加热元件选拔1750℃级硅钼棒，广泛用于真空或惰性气体保护状态下，新材料样品的烧结或退火。

1600℃双温区高温真空管式炉GSL-1600X-Ⅱ每个加热地域长300mm，由30段智能温度调节仪进行控温，选择硅钼棒加热元件温度可达1600℃，选择硅碳棒加热元件温度可达1400℃，通过调节两个温区的控温步伐使炉管内温度场变成一温度梯度。本机可用于CVD或PVD主意来发展纳米材料和制作百般薄膜。

1600℃三温区高温真空管式炉GSL-1600X-III主要用于高档院校、科研院所、工矿企业等实验或小批量出产，对电子陶瓷的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积等工艺。

1700℃高温真空空气管式炉GSL-1700X采取1800℃级硅钼棒为加热元件，Z高温度可抵达1700℃，可广泛的用于真空或惰性气体保险状态下资料的烧结和退火。

1700℃真空管式炉GSL-1700X-S选择三十段程控PID控温仪，Z高温度可来到1700℃，可广泛的用于真空或惰性气体保护状态下材料的烧结和退火。