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2英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-2可安装直径为2“的靶材，合用靶材种类较广，如金属/绝缘靶或磁性/非磁性靶材。配装有环形NdFeB永磁体在溅射头上，以保证溅射镀膜的效率和均匀性。可与DC或RF电源共同使用。

1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD可安装直径为1“的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相成婚，所以可溅射各类靶材。且选取高真空的布局设计，可提高镀膜质量。

100W小型手动匹配型射频电源RF-100-LD频率为13.56MHz，专门与本司1“的磁控溅射头配用，可搭建成一套较廉价的溅射镀膜编制，用于制作非导电薄膜。

300W小型自动完婚型射频电源RF-300I-LD自动完婚器和13.56MHz的射频电源集成在沿路，不妨自动完婚容抗和感抗，使得安装和操作特别加倍容易便利。配用本司的磁控溅射头可自行搭建磁控溅射镀膜仪。

500W直流溅射电源DC-500-LD主要适用于我公司制造的VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪和VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪，主要为溅射仪供应直流电源，联合磁控溅射头达到溅射靶材的目的。