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混气体例二路质子GSL-2Z是用于控制一种或两种的气体流经真空密封的管式炉，这种气体控制体例安装在搬动架内，管式炉可能放在搬动架上面，气体控制体例的前面板上有控制并显示气体流量的调节阀，可能用于CVD体例及退火炉，用来研究气体境遇对材料的影响，在半导体和集成电路产业、特种材料学科、化学产业、石油产业、医药、环保、真空等多种领域的科研和生产中有着重要的作用，广泛应用于电子工艺设备，如扩散、氧化、外。

混气系统三路质子GSL-3Z是用于控制一种到三种的气体流经真空密封的管式炉，这种气体控制系统安装在挪动转移架内，管式炉不妨放在挪动转移架上面，气体控制系统的前面板上有控制并表现气体流量的调节阀，不妨用于CVD系统及退火炉，用来考究气体处境对材料的影响，在半导体和集成电路家产、特种材料学科、化学家产、煤油家产、医药、环保、真空等多种领域的科研和生产中有着重要的功用，广泛应用于电子工艺设备，如扩散、氧化、外延

混气编制四路质子GSL-4Z是用于控制一种到四种的气体流经真空密封的管式炉，这种气体控制编制安装在挪动转移架内，管式炉可能放在挪动转移架上面，气体控制编制的前面板上有控制并体现气体流量的调节阀，可能用于CVD编制及退火炉，用来查究气体情况对原料的影响，在半导体和集成电路工业、特种原料学科、化学工业、石油工业、医药、环保、真空等多种领域的科研和生产中有着重要的功用，广泛应用于电子工艺设备，如扩散、氧化、外延

小型两通道供气编制CGM-2F是一种紧凑型双通道微量气体混合供气编制，输入的两种区别气体通过调节压力和流量，输出一种较正确的混合性气体，可用以小型管式炉、手套箱、等离子清洗机、小型PECVD编制。

多路浮子控制供气编制GSL-3F适用于控制一种到三种气体的通入，管式炉不妨置于其上，可用于CVD编制及退火炉，可用研究气体境遇对质料的影响。

精密氮气发生器DFN-500是一种小型高纯度气体发生器，它爆发气体的速度可到达500ml/min，且气体纯度99.99%，是化学和质料测试室的抱负设备。