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可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL是一种热治理炉，拔取红外灯加热和挪动转移炉体冷却，可获得Z高升温速度为100°C/s 、降温速度为5°C/s。

1200℃单管滑动飞快加热冷却炉OTF-1200X-80SL底部安装一对滑轨，可手动进行炉体搬动，Z高工作温度达1200°C，加热和冷却速率在真空或者惰性气体情况下不妨达到10°C/s。为获得Z快加热，可预先加热炉子设定的温度，然后搬动炉子到样品场所；为获得Z快冷却，可在样品加热后搬动炉子至另一端，本机是低资本进行飞快热料理的理想设备。

1200℃双管滑动式四通道混气CVD编制OTF-1200X-4-C4LV是专门为在金属箔表面成长薄膜而设计的，是应用在新一代能源—柔性金属箔电极方面的研究。

生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW是一种紧凑型CVD炉，专为生长百般纳米线而设计，基片Z大3″。在法兰的左侧装有一个小加热器，可对输入的气体、液体、固体进行预加热后进入 CVD 炉进行纳米线的生长。其可滑动的样品架使操作简单。